Shutter Shock Unschärfen Vergleich

tabbycat hat geschrieben:

Galilei hat geschrieben:Beim Ankommen kanns Scheppern wie es will, das sollte eigentlich keine Auswirkungen mehr aufs Bild haben, da das ja da schon "im Kasten" und damit fertig ist.

Na beim ersten Vorhang trifft das noch nicht so zu .

mfg tc

Klar, hast natürlich Recht! War wohl zu früh zum Denken für mich...

tabbycat hat geschrieben:Bei Lithografiesystemen in der Halbleiterherstellung wird das zum Teil so gemacht und die Ansprüche dort liegen so satte 4-5 Größenordnungen höher.

Das zweifle ich jetzt einfach mal spontan an, lasse ich aber gerne eines Besseren belehren ... die Pixelgröße liegt bei ca. 5 µm, 4 Größenordnungen darunter wären dann ja 0,1nm... das ist die typische Größenordnung interatomarer Abstände, und soweit ist die Halbleitertechnik glaube ich noch nicht... welche Art von Litographie kommt denn da zum Einsatz? Ich würde auf rund 3-4 Größenordnungen tippen, oder rund 1-10nm.

Gruß, Aladin

Galilei hat geschrieben:

tabbycat hat geschrieben:Bei Lithografiesystemen in der Halbleiterherstellung wird das zum Teil so gemacht und die Ansprüche dort liegen so satte 4-5 Größenordnungen höher.

Das zweifle ich jetzt einfach mal spontan an, lasse ich aber gerne eines Besseren belehren ... die Pixelgröße liegt bei ca. 5 µm, 4 Größenordnungen darunter wären dann ja 0,1nm... das ist die typische Größenordnung interatomarer Abstände, und soweit ist die Halbleitertechnik glaube ich noch nicht... welche Art von Litographie kommt denn da zum Einsatz? Ich würde auf rund 3-4 Größenordnungen tippen, oder rund 1-10nm.

Log10(5 µm / 0.1 nm) sind laut meinem Taschenrechner schon mal 4,7... 4 Größenordnungen wären also erstmal 0.5 nm, immerhin 1 nm wenn man den doppelten Pixelpitch annimmt, was für Bayer-Sensoren aufgrund des Demosaicing üblich ist. Im Bereich von 2 nm liegen heutzutage tatsächlich allein die Overlay-Spezifikationen, also wie exakt der nächste Photolayer über den vorherigen passen muss - und das über den gesamten Wafer wohlgemerkt, also eine Strecke, die über 100 Mrd. mal so lang ist wie die geforderte Präzision. Die tatsächlich erreichte baseline ist noch etwas besser und die Positioniergenauigkeit muss ja entsprechend nochmal deutlich höher sein, denn da sind auch noch Abweichungen der Messung beim Alignment, Abbildungsfehler etcpp zu berücksichtigen. Und das alles, obwohl die sich bewegenden (und auch recht schweren) Teile Beschleunigungen von über 9 G (knapp 100 m/s²) ausgesetzt sind und das mehrfach pro Sekunde, immer wenn sie die Richtung wechseln. Atemberaubende Technik - soviel steht fest. Ich sag' immer gern: In den Dingern wird eigentlich permanent gegen Naturgesetze verstoßen . Und ja, vielleicht habe ich etwas aufgerundet, aber nicht viel. Auf jeden Fall weniger als bei 3-4 Größenordnungen abgerundet wurde.

mfg tc

tabbycat hat geschrieben:

Galilei hat geschrieben:

tabbycat hat geschrieben:Bei Lithografiesystemen in der Halbleiterherstellung wird das zum Teil so gemacht und die Ansprüche dort liegen so satte 4-5 Größenordnungen höher.

Das zweifle ich jetzt einfach mal spontan an, lasse ich aber gerne eines Besseren belehren ... die Pixelgröße liegt bei ca. 5 µm, 4 Größenordnungen darunter wären dann ja 0,1nm... das ist die typische Größenordnung interatomarer Abstände, und soweit ist die Halbleitertechnik glaube ich noch nicht... welche Art von Litographie kommt denn da zum Einsatz? Ich würde auf rund 3-4 Größenordnungen tippen, oder rund 1-10nm.

Log10(5 µm / 0.1 nm) sind laut meinem Taschenrechner schon mal 4,7... 4 Größenordnungen wären also erstmal 0.5 nm, immerhin 1 nm wenn man den doppelten Pixelpitch annimmt, was für Bayer-Sensoren aufgrund des Demosaicing üblich ist. Im Bereich von 2 nm liegen heutzutage tatsächlich allein die Overlay-Spezifikationen, also wie exakt der nächste Photolayer über den vorherigen passen muss - und das über den gesamten Wafer wohlgemerkt, also eine Strecke, die über 100 Mrd. mal so lang ist wie die geforderte Präzision. Die baseline ist noch etwas besser und die Positioniergenauigkeit muss entsprechend nochmal deutlich höher sein, denn da sind ja auch noch Abweichungen der Messung beim Alignment, Abbildungsfehler etcpp zu berücksichtigen. Und das alles, obwohl die sich bewegenden (und auch recht schweren) Teile Beschleunigungen von über 9 G (knapp 100 m/s²) ausgesetzt sind und das mehrfach pro Sekunde, immer wenn sie die Richtung wechseln. Atemberaubende Technik - soviel steht fest. Ich sag' immer gern: In den Dingern wird eigentlich permanent gegen Naturgesetze verstoßen . Und ja, vielleicht habe ich etwas aufgerundet, aber nicht viel. Auf jeden Fall weniger als bei 3-4 Größenordnungen abgerundet wurde.

mfg tc

Also einigen wir uns auf 4 Größenordnungen

mfg tc

Galilei hat geschrieben:

ulrichschiegg hat geschrieben:Ich würde auch mal vermuten, dass das Loslaufen des Verschlusses schwieriger zu handhaben ist, als das Ankommen.

Beim Ankommen kanns Scheppern wie es will, das sollte eigentlich keine Auswirkungen mehr aufs Bild haben, da das ja da schon "im Kasten" und damit fertig ist.

Es kommen ja immer 2 Lamellen an: die, die aufmacht und die die zumacht. Nachdem die Unschärfe bei ca. der halben Synchronzeit auftaucht, schätze ich, dass das Ankommen des Aufmachvorhanges der Auslöser ist.

Nicht vielleicht die doppelte Synchronzeit?

mfg tc

tabbycat hat geschrieben:Nicht vielleicht die doppelte Synchronzeit?

mfg tc

Ah, Ja, natürlich!

das Problem gab es schon bei analogen slr....
Die Super A hatte einen kräftigeren "blur" als die MX oder (noch weniger) die Chinon CP 5/6 (so auch damals von einer der Fotozeitschriften getestet).

Sehr interessant.
Das es so etwas gibt war mir bisher nicht bewusst.

Ich bin mal gespannt wie sich die SR der K5IIs an einem Oktocopter verhalten wird, der Gimbal wird zwar mit Gelpads entkoppelt, bei meinem Glück habe ich dann sicher irgendwo eine Resonanz, wie immer halt