Galilei hat geschrieben:
tabbycat hat geschrieben:
Bei Lithografiesystemen in der Halbleiterherstellung wird das zum Teil so gemacht und die Ansprüche dort liegen so satte 4-5 Größenordnungen höher.
Das zweifle ich jetzt einfach mal spontan an, lasse ich aber gerne eines Besseren belehren
... die Pixelgröße liegt bei ca. 5 µm, 4 Größenordnungen darunter wären dann ja 0,1nm... das ist die typische Größenordnung interatomarer Abstände, und soweit ist die Halbleitertechnik glaube ich noch nicht... welche Art von Litographie kommt denn da zum Einsatz?
Ich würde auf rund 3-4 Größenordnungen tippen, oder rund 1-10nm.
Log10(5 µm / 0.1 nm) sind laut meinem Taschenrechner schon mal 4,7... 4 Größenordnungen wären also erstmal 0.5 nm, immerhin 1 nm wenn man den doppelten Pixelpitch annimmt, was für Bayer-Sensoren aufgrund des Demosaicing üblich ist. Im Bereich von 2 nm liegen heutzutage tatsächlich allein die Overlay-Spezifikationen, also wie exakt der nächste Photolayer über den vorherigen passen
muss - und das über den gesamten Wafer wohlgemerkt, also eine Strecke, die über 100 Mrd. mal so lang ist wie die geforderte Präzision. Die tatsächlich erreichte baseline ist noch etwas besser und die Positioniergenauigkeit muss ja entsprechend nochmal deutlich höher sein, denn da sind auch noch Abweichungen der Messung beim Alignment, Abbildungsfehler etcpp zu berücksichtigen. Und das alles, obwohl die sich bewegenden (und auch recht schweren) Teile Beschleunigungen von über 9 G (knapp 100 m/s²) ausgesetzt sind und das mehrfach pro Sekunde, immer wenn sie die Richtung wechseln. Atemberaubende Technik - soviel steht fest. Ich sag' immer gern: In den Dingern wird eigentlich permanent gegen Naturgesetze verstoßen
. Und ja, vielleicht habe ich etwas aufgerundet, aber nicht viel. Auf jeden Fall weniger als bei 3-4 Größenordnungen abgerundet wurde.
mfg tc
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